Cilag AG ist ein erfolgreiches, internationales Entwicklungs- und Produktionsunternehmen der Pharmasparte von Johnson & Johnson mit Sitz in Schaffhausen.
Wir suchen DICH - Lehrstelle als Chemie- und Pharmatechnologe:login EFZ (Lehrstelle) für 2024
Ausbildungsdauer: 3 Jahre
Abschluss: Eidg. Fähigkeitszeugnis "Chemie- und Pharmatechnologe:login EFZ"
Vorbildung: Obligatorische Schule mit Grundanforderungen abgeschlossen
Was du bei uns lernst: Als Chemie- und Pharmatechnologe:login (CPT) stellst du mit automatisierten Fabrikationsanlagen chemische, biologische und pharmazeutische Produkte her. Du bist verantwortlich für die Vorbereitung, Durchführung und Kontrolle des Produktionsprozesses.
Für die Produktionsprozesse planst und berechnest du die benötigten Mengen Rohstoffe und stellst diese entsprechend bereit. Die Vorbereitung der Anlagen, bevor die Produktion gestartet werden kann, gehört ebenfalls zu deinen Aufgaben. Mit einer Herstellvorschrift führst du die nötigen Arbeitsschritte sicher durch. In bestimmten Prozessphasen ziehst du Produktmuster und analysierst diese im Labor. Nach beendeter Produktion reinigst du die verwendeten Anlagenteile und führst anschliessend Funktionskontrollen, sowie kleinere Wartungsarbeiten durch. Abfälle werden danach fachgerecht rezykliert oder entsorgt.
Qualifications
Was du mitbringen solltest:
Guter Real- oder Sekundarschulabschluss
Interesse an Mathematik, Chemie, Physik
handwerkliches Geschick,
technisches Interesse,
Exaktheit,
gute Beobachtungsgabe
Zuverlässigkeit
Ausdauer
Flexibilität
Teamfähigkeit
Bewerbungsunterlagen:
Guter Real- oder Sekundarschulabschluss
Motivationsschreiben
Lebenslauf
Sämtliche Schulzeugnisse der Oberstufe
Stellwerk 8-Test
Haben wir dein Interesse geweckt? Dann freuen wir uns auf deine Bewerbung mit Motivationsschreiben, Lebenslauf, sämtlichen Schulzeugnissen der Oberstufe sowie dem Stellwerk 8-Test (erstellt mit max. 2 PDF Dateien).
Hast du noch Fragen? Wir geben dir gerne weitere Auskünfte über die Stelle per E-Mail SH-admin.berufsbildung@its.jnj.com.
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